近日，全球最牛的光刻机厂商ASML的CEO克里斯托夫·富凯，接受了媒体的专访，在谈到向中国出口的光刻机时，说出了很多自己的观点。
其中他提到，ASML目前对中国出口的光刻机，比ASML最新的光刻机，其数值孔径是整整落后了8代的，技术水平，就相当于他们2013年、2014年向其它西方国家出口的水平，技术差距超过了10年。
这话一说出来，网友们瞬间炸锅了。
因为大家一直以来，都以为只是EUV光刻机买不到，非EUV光刻机还是没什么问题的，比如浸润式DUV光刻机等，应该是随便能买的，不受限制的。
最后发现，原来真不是如此，浸润式DUV也是有型号，有技术代差的，并且差距如此之大，整整10年啊，一直只把10年前的东西，卖给中国，真的难以接受。
很多人并不清楚，光刻机先进不先进，其实是从光源、数值孔径等多方面来判断的，光源真不是唯一标准。
在同样的光源下，数值孔径越大，那么光刻机的分辨率就越高，拿EUV光刻机来讲，虽然同样是13.5nm的光，但数值孔径不一样，技术就不一样，到目前也发展到第三代了。
而浸润式DUV光刻机，也同样是发展了好多代了，其分辨率不一样，能造的芯片工艺也不一样，但ASML卖给中国的，却是较为老旧的型号，新的型号，一直没有卖给中国。
这不是让很多人很尴尬么，原来我们自己的光刻机，落后ASML这么多，别人拿出10年前的旧的光刻机，都比我们自己的要强。
当然，关于禁令，富凯也提到了自己的观点，他认为不能一味的封锁，因为中国一个14亿人的大国，必须要谋求技术进步，不会接受被卡脖子的，封锁太狠了，就会逼出中国自研来。
所以他认为，对中国出口光刻机，应该寻求一个微妙的平衡点。
什么叫微妙的平衡点呢，他也解释了，其实就是倾销和技术封锁那一套，卖给中国的光刻机，不能太先进了，这样就能够拖慢中国技术进步的速度。
但同时，又不能太落后了，还是要比中国自己研发的先进一点点，这样中国就会购买ASML的光刻机，这样就可以维持中方对西方技术的依赖。
这个思想也是与黄仁勋、比尔盖茨的想法差不多，不能给太好的，只要比中国自己有的先进一点就行，这样既能打压对方自主研发，又能销售产品，这才是最好的解决方案。
可见，落后就要挨打是真理，如果中国有自己的先进的光刻机，ASML敢这么样，如果中国有先进的AI芯片，美国又敢这样么，正因为我们没有，所以他们才能这么干。
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